{"id":26238,"date":"2026-03-03T10:37:07","date_gmt":"2026-03-03T10:37:07","guid":{"rendered":"https:\/\/www.europesays.com\/be-fr\/26238\/"},"modified":"2026-03-03T10:37:07","modified_gmt":"2026-03-03T10:37:07","slug":"limec-ameliore-la-lithographie-euv-linjection-doxygene-accelere-les-resines-doxyde-metallique","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/www.europesays.com\/be-fr\/26238\/","title":{"rendered":"L\u2019Imec am\u00e9liore la lithographie EUV : l\u2019injection d\u2019oxyg\u00e8ne acc\u00e9l\u00e8re les r\u00e9sines d\u2019oxyde m\u00e9tallique"},"content":{"rendered":"<p>L\u2019Imec a pr\u00e9sent\u00e9 une perc\u00e9e dans l\u2019optimisation de la lithographie EUV. En injectant de l\u2019oxyg\u00e8ne pendant la cuisson apr\u00e8s exposition (post-exposure bake) des r\u00e9sines d\u2019oxyde m\u00e9tallique (MOR), une photosensibilit\u00e9 jusqu\u2019\u00e0 vingt pour cent plus rapide est atteinte et les co\u00fbts de processus diminuent. <\/p>\n<p>Les conclusions de l\u2019<a href=\"https:\/\/fr.itdaily.be\/nouvelles\/innovation\/imec-repusse-limites-pour-quantiques\/\" rel=\"nofollow noopener\" target=\"_blank\">imec <\/a>indiquent que le contr\u00f4le de la composition du gaz, et surtout du niveau d\u2019oxyg\u00e8ne, lors des \u00e9tapes critiques du processus de lithographie EUV a un impact significatif sur les performances des r\u00e9sines d\u2019oxyde m\u00e9tallique. Ces r\u00e9sines sont cruciales pour la production de puces dot\u00e9es de structures extr\u00eamement petites. <\/p>\n<p>La recherche a \u00e9t\u00e9 pr\u00e9sent\u00e9e lors d\u2019un congr\u00e8s international et est pertinente pour les fabricants qui visent un d\u00e9bit de plaquettes plus \u00e9lev\u00e9 et des co\u00fbts moindres. L\u2019objectif de l\u2019Imec est d\u2019am\u00e9liorer l\u2019efficacit\u00e9 des processus de lithographie pour les semi-conducteurs avanc\u00e9s. <\/p>\n<p>Ces derni\u00e8res ann\u00e9es, les r\u00e9sines d\u2019oxyde m\u00e9tallique sont devenues une alternative importante aux r\u00e9sines chimiquement amplifi\u00e9es. Elles offrent des avantages tels qu\u2019une meilleure r\u00e9solution et une moindre rugosit\u00e9 des bords de motifs. Cela les rend adapt\u00e9es aux applications n\u00e9cessitant des structures extr\u00eamement petites et pr\u00e9cises, en particulier lors de l\u2019utilisation de la lithographie EUV \u00e0 haute ouverture num\u00e9rique (High NA).  <\/p>\n<p><a href=\"https:\/\/www.europesays.com\/be-fr\/wp-content\/uploads\/2026\/03\/Picture1.png.webp.webp\"><img loading=\"lazy\" decoding=\"async\" width=\"778\" height=\"445\" src=\"https:\/\/www.europesays.com\/be-fr\/wp-content\/uploads\/2026\/03\/Picture1.png.webp.webp\" alt=\"\" class=\"wp-image-396278\" title=\"Image1\"  \/><\/a>Graphique montrant l\u2019impact de l\u2019injection d\u2019oxyg\u00e8ne sur la dose EUV n\u00e9cessaire pour l\u2019impression de MOR mod\u00e8les et commerciaux. Source : imec<\/p>\n<p>Le transfert de motifs am\u00e9lior\u00e9 et la possibilit\u00e9 de travailler avec des films de r\u00e9sine minces font que les MOR sont consid\u00e9r\u00e9es comme prometteuses pour l\u2019avenir de la production de puces. Leurs performances sont d\u00e9sormais optimis\u00e9es par une injection d\u2019oxyg\u00e8ne contr\u00f4l\u00e9e pendant le processus de cuisson apr\u00e8s exposition. <\/p>\n<p>R\u00e9sultats avec l\u2019instrument BEFORCE<\/p>\n<p>L\u2019Imec a d\u00e9velopp\u00e9 l\u2019instrument BEFORCE pour \u00e9tudier l\u2019influence de l\u2019environnement ambiant sur les r\u00e9sines MOR. Cet appareil a permis de d\u00e9terminer qu\u2019une concentration d\u2019oxyg\u00e8ne de cinquante pour cent pendant la cuisson apr\u00e8s exposition permet d\u2019obtenir une photosensibilit\u00e9 jusqu\u2019\u00e0 vingt pour cent plus rapide, par rapport aux vingt et un pour cent standard. <\/p>\n<p><a href=\"https:\/\/www.europesays.com\/be-fr\/wp-content\/uploads\/2026\/03\/BEFORCE-1-730x410.jpg.webp.webp\"><img loading=\"lazy\" decoding=\"async\" width=\"730\" height=\"410\" data-id=\"396266\" src=\"https:\/\/www.europesays.com\/be-fr\/wp-content\/uploads\/2026\/03\/BEFORCE-1-730x410.jpg.webp.webp\" alt=\"\" class=\"wp-image-396266\" title=\"BEFORCE-1\"  \/><\/a>L\u2019instrument BEFORCE. Source : imec<\/p>\n<p>Cette approche r\u00e9duit la dose EUV requise et augmente le d\u00e9bit du scanner EUV. Les fabricants peuvent d\u00e9sormais appliquer ces connaissances pour adapter leur \u00e9quipement \u00e0 des processus de production plus stables et plus efficaces. <\/p>\n<p>Recherches futures<\/p>\n<p>Pour un r\u00e9sultat optimal, des recherches suppl\u00e9mentaires sont n\u00e9cessaires sur le m\u00e9canisme chimique \u00e0 l\u2019origine de l\u2019am\u00e9lioration des performances. L\u2019Imec travaille sur des exp\u00e9riences o\u00f9 les changements chimiques pendant le processus de cuisson sont analys\u00e9s en temps r\u00e9el, notamment par spectrom\u00e9trie infrarouge. <\/p>\n<p><a href=\"https:\/\/itdaily.fr\/nouvelles\/innovation\/limec-ameliore-la-lithographie-euv\/?utm_medium=readmore&amp;utm_source=limec-ameliore-la-lithographie-euv\" rel=\"ugc nofollow noopener\" id=\"readalso-block_7f886f3764322f2401ab1e9f4d4eda05\" class=\"readalso cube\" target=\"_blank\"><\/p>\n<p class=\"readalso-title\">lire aussi<\/p>\n<p>    L\u2019Imec am\u00e9liore la lithographie EUV : l\u2019injection d\u2019oxyg\u00e8ne acc\u00e9l\u00e8re les r\u00e9sines d\u2019oxyde m\u00e9tallique<br \/>\n<\/a><\/p>\n<p>L\u2019outil BEFORCE est en cours d\u2019extension avec de nouvelles capacit\u00e9s de mesure et peut tester aussi bien les r\u00e9sines MOR que CAR. Les partenaires de l\u2019imec ont acc\u00e8s \u00e0 cette technologie pour leur propre \u00e9valuation de r\u00e9sine. <\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"L\u2019Imec a pr\u00e9sent\u00e9 une perc\u00e9e dans l\u2019optimisation de la lithographie EUV. 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