Analytici oslovení televizí CNBC ale varují, že na podobné závěry je zatím příliš brzy. Podle nich existuje hned několik důvodů, proč by současný vývoj nemusel znamenat zásadní změnu na trhu.
„Bral bych to s velkou rezervou, protože to, co Čína dokáže vyrobit, může být omezené pouze na velmi nízký segment trhu,“ uvedl pro CNBC Stéphane Houri, vedoucí akciového výzkumu společnosti ODDO BHF.
Nestačí, že stroj funguje
Samotné sestrojení litografického stroje totiž podle odborníků ještě neznamená, že je schopen konkurovat výrobkům společnosti ASML. Při výrobě polovodičů rozhoduje především takzvaná výtěžnost (yield) – tedy kolik použitelných čipů vznikne z jednoho výrobního procesu. Čím vyšší výtěžnost, tím levnější a efektivnější výroba.
Zatím ale není jasné, zda čínské zařízení dokáže dosáhnout podobných výsledků jako stroje ASML. „Potřebují dosáhnout alespoň stejné výtěžnosti, nestačí jen mít funkční stroj,“ upozornil Nick Patience z analytické společnosti Futurum Group.
Podle něj mají i dnes používané dovážené DUV stroje v čínských továrnách výrazně horší výsledky než zařízení, která využívá tchajwanský gigant TSMC.
„Jakýkoli stroj vyvinutý dosud neznámou státem podporovanou firmou začíná z mnohem horší výchozí pozice. Spolehlivost se buduje dlouholetým provozem a neustálým zdokonalováním v reálném nasazení. To ASML má, zatímco Čína této úrovně ještě nedosáhla,“ dodal Patience.
Foto: Intel Corporation, Reuters
Čínský litografický stroj typu DUV
Další překážkou je výroba ve velkém
Vedle samotné kvality zařízení upozorňují analytici také na problém s jejich výrobou. Podle informací serveru The Information plánuje čínská společnost letos vyrobit pouze pět DUV strojů a v příštím roce přibližně dvacet. Pro srovnání – ASML plánuje jen v roce 2026 dodat zhruba 130 imerzních DUV systémů a v roce následujícím výrobní kapacitu ještě navýšit.
„Výkon zařízení, schopnost rozšířit jejich výrobu, provozní spolehlivost celé flotily, okolní ekosystém i ekonomická nevýhodnost ve srovnání s již plně odepsanými stroji ASML – to vše hraje proti čínským DUV systémům,“ uvedli analytici společnosti SemiAnalysis.
Podle nich je právě schopnost vyrábět tato zařízení ve větším počtu nejvíce podceňovanou částí celého projektu.
Pro ASML zatím žádný problém
Analytici zároveň upozorňují, že ani případný úspěch čínských výrobců nemusí nizozemskou společnost výrazně poškodit. ASML totiž už dnes kvůli exportním omezením nesmí část svých nejpokročilejších DUV systémů do Číny prodávat. Domácí čínská zařízení by tak nahrazovala stroje, které by ASML stejně nemohla dodat.
„Pokud ASML zařízení nesmí nebo nemůže do Číny dodat, jejich místní výroba nijak nesnižuje její již plně zaplněnou knihu objednávek,“ upozorňují analytici SemiAnalysis.
Podobně situaci hodnotí i Paul Triolo ze společnosti DGA Albright Stonebridge Group. „Jedna věc je dodat několik i jen základně funkčních DUV strojů domácím zákazníkům. Něco úplně jiného je pak podporovat globální flotilu zařízení, která by představovala skutečnou konkurenci pro ASML,“ řekl Triolo televizi CNBC.
EUV je úplně jiná liga
Litografické stroje DUV (Deep Ultraviolet) využívají hluboké ultrafialové záření k vytváření extrémně jemných struktur na křemíkových waferových deskách. Jde o jednu z klíčových technologií při výrobě polovodičů a používá se pro produkci široké škály čipů – od automobilového průmyslu přes paměťové čipy až po řadu procesorů.
Pro výrobu těch vůbec nejmodernějších čipů určených například pro umělou inteligenci nebo nejvýkonnější chytré telefony už ale DUV nestačí. K tomu slouží technologie EUV (Extreme Ultraviolet), která využívá světlo s mnohem kratší vlnovou délkou a umožňuje vyrábět podstatně menší a výkonnější tranzistory.
Právě v oblasti EUV si ASML drží prakticky absolutní světový monopol.
Přestože se v minulosti objevily informace, že Čína dokončila funkční prototyp EUV stroje, analytici upozorňují, že úspěch u DUV ještě zdaleka neznamená, že podobný průlom přijde také u pokročilejší technologie.
Podle společnosti SemiAnalysis potřebovala ASML přibližně dvacet let vývoje a investice kolem deseti miliard dolarů (211 miliard korun), než se jí podařilo dostat EUV do komerční výroby.
„Některé průlomy v oblasti imerzní DUV litografie lze využít i při vývoji pokročilejších EUV technologií, ale mnoho z nich nikoli. Zdroj EUV záření i optické systémy jsou technologicky mnohem vyspělejší a podstatně složitější než u DUV,“ uvedl Paul Triolo.
Stejně skeptický je i Stéphane Houri z ODDO BHF. „Myslím si, že EUV je zatím mimo dosah. Nikdy neříkej nikdy, zvlášť pokud jde o Čínu, ale jde o zcela odlišnou technologii,“ uzavřel.
