{"id":1134713,"date":"2026-07-01T07:47:26","date_gmt":"2026-07-01T07:47:26","guid":{"rendered":"https:\/\/www.europesays.com\/de\/1134713\/"},"modified":"2026-07-01T07:47:26","modified_gmt":"2026-07-01T07:47:26","slug":"ohne-deutsche-technik-kein-highend-chip-weltweit","status":"publish","type":"post","link":"https:\/\/www.europesays.com\/de\/1134713\/","title":{"rendered":"Ohne deutsche Technik kein Highend-Chip weltweit"},"content":{"rendered":"

\t\"Dieses<\/a>Dieses Beleuchtungssystem von Zeiss f\u00fcr die High-NA-EUV-Lithographie wiegt rund sechs Tonnen und besteht aus mehr als 25.000 Einzelteilen. Foto: Zeiss
\nIn den legend\u00e4ren EUV-Chipbelichtern von ASML stecken Zeiss-Spiegel & Trumpf-Laser \u2013 und auch Fraunhofer-Technologie aus Dresden<\/p>\n

Oberkochen\/Dresden\/Jena<\/strong>, 01.07.26. In der Schaltkreisproduktion hat die EU ihre ehrgeizigen Planziele zwar immer wieder gerissen. Doch auch jenseits aller \u201eChipgesetze\u201c aus Br\u00fcssel kommt weltweit kein Halbleiterkonzern an Europa vorbei, wenn es um die Ausr\u00fcstung modernster Schaltkreis-Fabriken geht: Ohne die Extrem-Ultraviolett-Lithografiemaschinen (EUV) <\/a>der niederl\u00e4ndischen Firma \u201eASML\u201c lassen sich keine Chips der allerneuesten Generationen mit Strukturgr\u00f6\u00dfen um die zwei Nanometer produzieren. Diese Anlagen wiederum w\u00fcrden ohne deutsche Technik nicht funktionieren. Und die wurde zu wesentlichen Teilen von Carl Zeiss Oberkochen, aber auch vom Fraunhofer-Strahltechnikinstitut (IWS) in Dresden sowie von Fraunhofer Jena entwickelt. Darauf hat der Zeissianer Bernhard Kneer bei einem Vortrag vor Mikroelektronik-Alumni<\/a> in den Technischen Sammlungen Dresden aufmerksam gemacht.<\/p>\n

Zeiss Oberkochen war ab 1963 in Markt f\u00fcr Chipausr\u00fcstungen aktiv<\/p>\n

Mit Chipbelichtungs-Technik habe sich Zeiss in Oberkochen \u2013 das sich nach dem Krieg als Abspaltung von Carl Zeiss Jena gebildet hatte \u2013 ab Ende der 1960er Jahre besch\u00e4ftigt: \u201eDamals haben Elektronikproduktenten ihre Chips oft noch selbst hergestellt\u201c, erkl\u00e4rt der \u201eZeiss SMT\u201c-Manager. 1963 habe Zeiss eine Schaltkreis-Druckanlage f\u00fcr Telefunken mitentwickelt. In den 1970ern folgten Ger\u00e4te, mit denen sich Schaltkreis-Maskenvorlagen auf die Siliziumscheiben (Wafer) projizieren lassen. Ab den 1980ern belieferten die W\u00fcrttemberger auch ASML in den Niederlanden mit ihren optischen Kernkomponenten.<\/p>\n

Kombinat Carl Zeiss Jena war Schl\u00fcsselzulieferer f\u00fcr DDR-Chipindustrie<\/p>\n

Derweil war auch das einstige Mutterunternehmen Carl Zeiss Jena eines der Hochtechnologie-Schl\u00fcsselkombinate f\u00fcr die DDR-Wirtschaft<\/a> geworden. \u00c4hnlich wie der s\u00fcddeutsche \u201eSchwester\u201c-Konzern produzierten die Jenaer l\u00e4ngst nicht mehr \u201enur\u201c Mikroskope und andere klassische Optikger\u00e4te, sondern auch Ausr\u00fcstungen f\u00fcr die Mikroelektronik-Industrie in der DDR, in der Sowjetunion und im ganzen Ostblock. Dazu geh\u00f6rten in den 1980ern unter anderem automatische Maskenprojektions-\u00dcberdeckungs-Repeater (A\u00dcR), die konzeptionell nicht weit weg von dem waren, was Zeiss Oberkochen damals produzierte. \u201eDas war alles ziemlich zeitgem\u00e4\u00df\u201c, sch\u00e4tzt Kneer im R\u00fcckblick auf die ostdeutschen Pendants ein.<\/p>\n

1995 stieg Zeiss in die Entwicklung von EUV-Optiken ein<\/p>\n

Im Zuge der politischen Wende ging das Technologiekombinat in Jena wie so viele DDR-Konzerne unter und teilweise in der einstigen Oberkochener \u201eAbspaltung\u201c auf. In den folgenden drei Jahrzehnten errangen die Zeissianer eine weltweit f\u00fchrende Position als Schl\u00fcsselzulieferer f\u00fcr die modernsten Chipfabrik-Ausr\u00fcstungen von ASML \u2013 etwa bei den optischen Komponenten f\u00fcr die \u201enasse\u201c Immersions-Lithografie. Ab 1995 stieg Zeiss dann ins EUV-Gesch\u00e4ft ein. Ab 2012 produzierte Oberkochen dann die extrem aufwendigen Spiegeloptiken f\u00fcr die EUV-Anlagen von ASML in Serie<\/a>. F\u00fcr beides gibt es international bis heute nur je einen Anbieter.<\/p>\n

\"Vermessungskammer<\/a>Vermessungskammer f\u00fcr die EUV-Spiegel in Dresden. Foto: Fraunhofer-WS
\nWeltweit einzigartiges Technologieteam aus ASML, Zeiss und Trumpf<\/p>\n

Diese monopolartige Stellung hat auch mit dem extremen Aufwand zu tun, der n\u00f6tig ist, um extreme Ultraviolettstrahlen, die bereits nahe am weichen R\u00f6ntgenlicht arbeiten, \u00fcberhaupt so zu lenken, dass sie f\u00fcr die Genese von Chipstrukturen nutzbar sind. Denn EUV ist nicht nur f\u00fcr das menschliche Auge unsichtbar, es l\u00e4sst sich auch nicht durch Linsen lenken. Eine prinzipielle L\u00f6sung f\u00fcr dieses Problem hatte der japanische Professor Hiroo Kinoshita bereits 1985 entwickelt. Aber es sollte noch Dekaden dauern, bis sich sein Weg industriell durchsetzen konnte. Denn f\u00fcr die Lenkung von EUV-Licht bedarf es spezieller R\u00f6ntgenspiegel. Die wurden in den 1990ern und 2000er Jahren unter anderem durch Dresdner Fraunhofer-Ingenieure wesentlich mitentwickelt. Sie bestehen aus 40 bis 60 Schichten, von denen jede nur ein Prozent der eintreffenden Strahlen reflektieren kann. Nur in Summe sind diese Schichtstapel imstande, EUV-Strahlen mit Wellenl\u00e4ngen von 13,5 Nanometern zu steuern. Das IWS erreichte in den 2000ern mit seinen Spezialspiegeln neue Weltrekorde Reflexionsquoten von \u00fcber 70 Prozent. Auch in den \u201eLicht\u201c-Quellen f\u00fcr die riesigen EUV-Anlagen steckt viel deutsche Wertsch\u00f6pfung: In einer Vakuumkammer beschie\u00dfen Laser von \u201eTrumpf\u201c kleine Zinntr\u00f6pfchen. Sie erzeugen so ein rund 220.000 Grad hei\u00dfes Plasma<\/a>, das auf der gew\u00fcnschten Wellenl\u00e4nge von 13,5 Nanometern leuchtet. F\u00fcr die technologische Gesamtl\u00f6sung erhielten die Fraunhoferinstitute IOF in Jena und IWS in Dresden sowie der Laserspezialist \u201eTrumpf\u201c 2020 den \u201eDeutschen Zukunftspreis\u201c<\/a>.<\/p>\n

\n\"Bernhard<\/a>Bernhard Kneer von Zeiss SMT beim Akumni-Vortrag in den Technischen Sammlungen Dresden. Foto: Heiko Weckbrodt<\/p>\n

\u201eDas schafft man nur mit vollst\u00e4ndiger Automatisierung.\u201c
<\/strong>Bernhard Kneer, Leiter \u201eProduct Systems Engineering\u201c bei Carl Zeiss SMT<\/p>\n<\/blockquote>\n

\u00dcber 300 EUV-Optiken an die Niederl\u00e4nder geliefert<\/p>\n

Bisher hat Zeiss rund 300 EUV-Optiken an ASML geliefert \u2013 und diese Kolosse haben es in sich: Einige wiegen sechs Tonnen, andere sogar zw\u00f6lf Tonnen. Anspruchsvoll ist nicht nur wegen des Gewichtes die Fertigung der Spiegelanlagen: Picometergenaue Fertigungsverfahren seien daf\u00fcr n\u00f6tig, betont Kneer. Dies gilt insbesondere f\u00fcr die metergro\u00dfen EUV-Spiegel, die jeweils um die 100 Kilogramm wiegen und hochpr\u00e4zise Beschichtungen aus Molybd\u00e4n, Silizium und Tantal brauchen. \u201eDas schafft man nur mit vollst\u00e4ndiger Automatisierung\u201c, meint der Zeissianer.<\/p>\n

\"EUV-Anlage<\/a>EUV-Anlage aus den Niederlanden. Foto: ASML<\/p>\n

Die EUV-Systeme aus den Niederlanden und Deutschland fertigen nunmehr seit \u00fcber zehn Jahren bei TSMC in Taiwan \u2013 und inzwischen auch anderen Konzernen wie Intel \u2013 die leistungsf\u00e4higsten \u201eRechenknechte\u201c, die im Chipformat herstellbar sind: als Beschleuniger-Schaltkreise f\u00fcr die Rechenzentren der \u201eK\u00fcnstlichen Intelligenzen\u201c, als Prozessoren in neuen Smartphones oder aktuellen \u201eiPad\u201c-Tablettrechnern von Apple.<\/p>\n

Bedarf an EUV-Anlagen d\u00fcrfte weiter steigen<\/p>\n

Und der Bedarf an EUV-gemachten Chips \u2013 und damit die Nachfrage an Optiken aus Deutschland und Litho-Anlagen aus den Niederlanden \u2013 d\u00fcrfte in den n\u00e4chsten Jahren noch steigen: Wie erw\u00e4hnt, setzt inzwischen auch Intel solche EUV-Maschinen ein, zudem sorgt der KI-Boom f\u00fcr eine starke Nachfrage nach Schaltkreisen der Strukturgenerationen unterhalb von 7 Nanometern. ASML und Zeiss wiederum arbeiten daran, sowohl die Aufl\u00f6sung wie auch das Produktionstempo der EUV-Anlagen zu steigern \u2013 in Richtung 330 Wafer pro Stunde.<\/p>\n

Autor: Heiko Weckbrodt<\/a><\/p>\n

Quellen: Bernhard Kneer: \u201eVon UV zu EUV \u2013 ZEISS SMT und die Zukunft der Lithografie\u201c (Vortrag vor s\u00e4chsischen Mikroelektronik-Alumni am 23. Juni 2026 in den TSD, Zeiss, Oiger-Archiv, Wikipedia, Fraunhofer IWS, Silicon Saxony<\/p>\n","protected":false},"excerpt":{"rendered":"Dieses Beleuchtungssystem von Zeiss f\u00fcr die High-NA-EUV-Lithographie wiegt rund sechs Tonnen und besteht aus mehr als 25.000 Einzelteilen.…\n","protected":false},"author":2,"featured_media":1134714,"comment_status":"","ping_status":"","sticky":false,"template":"","format":"standard","meta":{"footnotes":"","_share_on_mastodon":"0"},"categories":[1835],"tags":[132646,14506,3364,29,2386,238853,45015,30,14509,7136,839,14108,859,14508,82867,133244],"class_list":["post-1134713","post","type-post","status-publish","format-standard","has-post-thumbnail","category-dresden","tag-asml","tag-chip","tag-de","tag-deutschland","tag-dresden","tag-euv","tag-fraunhofer","tag-germany","tag-halbleiter","tag-jena","tag-lithografie","tag-mikroelektronik","tag-sachsen","tag-silicon-saxony","tag-trumpf","tag-zeiss"],"share_on_mastodon":{"url":"https:\/\/pubeurope.com\/@de\/116843619897057665","error":""},"_links":{"self":[{"href":"https:\/\/www.europesays.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/posts\/1134713","targetHints":{"allow":["GET"]}}],"collection":[{"href":"https:\/\/www.europesays.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/posts"}],"about":[{"href":"https:\/\/www.europesays.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/types\/post"}],"author":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/www.europesays.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/users\/2"}],"replies":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/www.europesays.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/comments?post=1134713"}],"version-history":[{"count":0,"href":"https:\/\/www.europesays.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/posts\/1134713\/revisions"}],"wp:featuredmedia":[{"embeddable":true,"href":"https:\/\/www.europesays.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/media\/1134714"}],"wp:attachment":[{"href":"https:\/\/www.europesays.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/media?parent=1134713"}],"wp:term":[{"taxonomy":"category","embeddable":true,"href":"https:\/\/www.europesays.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/categories?post=1134713"},{"taxonomy":"post_tag","embeddable":true,"href":"https:\/\/www.europesays.com\/de\/wp-json\/wp\/v2\/tags?post=1134713"}],"curies":[{"name":"wp","href":"https:\/\/api.w.org\/{rel}","templated":true}]}}