Kína saját lábra állása a félvezetőiparban továbbra is fenyegető, sőt, egyre fenyegetőbb árnyékként vetül az egész nyugati technológiai ipar felé. Az ország lemaradását, illetve kitettségét jelentős mértékben csökkentheti, hogy a hírek szerint megkezdődött a saját fejlesztésű, immerziós mély-ultraibolya (DUV) litográfiai berendezések gyártása Kínában.
A gépeket egy viszonylag kevéssé ismert, állami tulajdonú cég, a Shanghai Aishengna Electronic Technology Group gyártja.
Ezeket a chipgyártásban nélkülözhetetlen, rendkívül drága és komplex eszközöket eddig szinte kizárólag a holland ASML-től tudták beszerezni a szegmens szereplői, ám az amerikaiak sikerrel elérték, hogy a DUV (és főleg EUV) berendezések Kína felé irányuló exportját korlátozza a szövetséges holland kormány.
Ez késztette arra az ázsiai országot, hogy saját kútfőből (rosszmájú feltételezések alapján a nyugati technológiából ihletet merítve) kezdje meg a levilágítóberendezések fejlesztését és gyártását, mely a The Information riportja szerint kezdetben meglehetősen alacsony volumenben zajlik majd, így idén mindössze 5, jövőre pedig 20 DUV-egység készülhet majd el.
Ezeket a vezető kínai félvezetőgyártók vehetik majd használatba, köztük az SMIC-vel, a Hua Hong Semiconductorral és a ChangXin Memory Technologies-szel (CXMT) – utóbbi éppen tegnap lépett tőzsdére Sanghajban, ezzel egy kereskedési napon belül az ország legnagyobb tőzsdén jegyzett vállalatává katapultálta magát.
Az AI ára
Fizetnek a befektetők, fizetnek a felhasználók, és nagy árat fizet az IT munkaerőpiac is. Vékony jégen járunk. Itt a 85. kraftie adás.
Az AI ára
Fizetnek a befektetők, fizetnek a felhasználók, és nagy árat fizet az IT munkaerőpiac is. Vékony jégen járunk. Itt a 85. kraftie adás.
A DUV és EUV litográfiai berendezéseket a félvezetőgyártásban az áramköri mintázatok szilíciumostyákra történő „felrajzolására” használják, a két eljárással ugyanakkor jellemzően másfajta végtermékeket állítanak elő.
Míg a fejlettebb, extrém-ultraibolya levilágítást a legfejlettebb chipek gyártásához használják 5-2 nm, vagy akár az alatti csíkszélességgel, addig a DUV rendszerekkel kevésbé összetett, jellemzően 7-10 nm-es eljárással készülő chipek állíthatók elő.
Ilyen gyártósorokon készül a memóriachipek nagy része is, így aligha véletlen, hogy a tegnapi hírre a nagy amerikai és ázsiai memóriagyártók befektetőinek megremegett a keze.
A riport megjelenését követő három órán belül ezermilliárd dollár párolgott el a nagyobb technológiai vállalatok értékéből, amiből 541 milliárd dollár a memóriagyártásban közvetlenül érdekelt cégekhez köthető.
A befektetők joggal tarthatnak attól, hogy a helyi DUV-berendezésekkel Kína középtávon képes lehet akkora gyártókapacitást hozni a memóriapiacra, mely már alkalmas lehet a jelenlegi extrém túlkereslet jelentős mérséklésére, ezzel letörve az árakat.
Azonban amint az a kínai félvezetőipari mérföldkövekkel kapcsolatos hírek esetében általában lenni szokott, az új eszközök gyártásáról szóló értesülések is felvetnek számos további kérdést. Ezek elsősorban a termelés hatékonyságára, illetve az azt közvetlenül tükröző kihozatali mutatókra vonatkoznak, melyekről semmit sem lehet egyelőre tudni még csak közelítőleg sem.
Szintúgy kételyeket ébreszthet a DUV litográfiai gépek előállításának skálázódása, mely egyelőre a közelében sincs a nyugati versenytársak tempójának. A CNBC cikke példaként kiemeli, hogy az idei 5 és jövőre előirányzott 20 kínai gép az ASML idei 130 és jövőre tervezett 170 darabos volumenjével versenyez.