![Chińscy inżynierowie rzekomo uszkodzili maszynę litograficzną ASML DUV podczas próby inżynierii wstecznej [1]](https://www.europesays.com/pl/wp-content/uploads/2025/10/22_chinscy_inzynierowie_rzekomo_uszkodzili_maszyne_litograficzna_asml_duv_podczas_proby_inzynierii_w-380x220.jpeg)
Chińscy inżynierowie rzekomo uszkodzili maszynę litograficzną ASML DUV podczas próby inżynierii wstecznej
Eksportowe ograniczenia nałożone przez USA i Holandię odcięły chińskie fabryki chipów od najnowocześniejszego sprzętu EUV, pozostawiając im dostęp…
![Qualcomm Snapdragon 8 Elite Gen 5 for Galaxy ma zostać wyprodukowany przez Samsunga przy użyciu litografii 2 nm [1]](https://www.europesays.com/pl/wp-content/uploads/2025/10/13_qualcomm_snapdragon_8_elite_gen_5_for_galaxy_ma_zostac_wyprodukowany_przez_samsunga_przy_uzyciu_l-380x220.jpeg)
![Intel 18A - Omówienie nowej litografii dla procesorów Panther Lake. Lepsza efektywność energetyczna dzięki RibbonFET i PowerVia [1]](https://www.europesays.com/pl/wp-content/uploads/2025/10/09_intel_18a_omowienie_nowej_litografii_dla_procesorow_panther_lake_lepsza_efektywnosc_energetyczna_-380x220.jpeg)
![Dzięki litografii Intel 18A, układy Panther Lake mają przynieść duży wzrost efektywności energetycznej względem Lunar Lake [1]](https://www.europesays.com/pl/wp-content/uploads/2025/10/08_dzieki_litografii_intel_18a_uklady_panther_lake_maja_przyniesc_duzy_wzrost_efektywnosci_energetyc-380x220.png)
![TSMC zdobywa 15 klientów na układy w procesie N2. Dziesięciu z nich planuje wykorzystać go do produkcji układów HPC i AI [1]](https://www.europesays.com/pl/wp-content/uploads/2025/09/22_tsmc_zdobywa_15_klientow_na_uklady_w_procesie_n2_dziesieciu_z_nich_planuje_wykorzystac_go_do_prod-380x220.jpeg)